고급 리소그래피 모델링 및 라스베가스 카지노 도구
고급 기술 노드에 최적화
반도체 제조, 평면 패널 디스플라스베가스 카지노 생산 및 고급 칩 포장을 포함한 다양한 응용 프로그램을 제공합니다
여러 상위 상위 파운드리에 의해 성공적으로 검증
엄격한 라스베가스 카지노 방법을 활용하여 다양한 매개 변수 설정에서 프로세스 창을 결정하고 세탁기 노출 및 수동 측정을 크게 줄여서 프로세스 개발 효율성을 향상시킵니다
다른 프로세스 라스베가스 카지노 도구와 완벽하게 통합하여 마스크 설계에 대한 중요한 패턴 프로세스 최적화를 가능하게하고 생산 패턴 고장 위험을 완화합니다
지원
마스크 3D 효과
및 프리폼 소스 라스베가스 카지노
임의의 확대 지원,
경사 사건, 렌즈 Zernike Aberrations,
및 Jones 학생
업계 표준 딜 모델 지원
PEB 확산 및 반응 효과,
개발 효과 및 수축 라스베가스 카지노
단일 노출 처리 가능,
다중 노출 (LLE),
및 다중 초점 리소그래피
빌드 인 매개 변수 최적화 엔진
피팅 저항 모델 매개 변수
웨이퍼 데이터 기반
직관적 인 GUI 디자인
내부 및 외부의 경우
데이터 시각화
내장 C 및 Python API
JSON 및 CSV 데이터 교환
txt로 내보내기,
GDSII 및 STL 형식
리소그래피 창
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68140_68150
68361_68375
of
중요한 패턴
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매개 변수 개발
Photorisist & Lithography
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매개 변수 평가 및 최적화